（首尔3日综合电）韩国以半导体技术作为尖端科技产业核心，在经济、国防等各领域都具有重要地位，有鉴于近年核心技术外流至中国案例不断，韩国大法院量刑委员会正研议提高相关刑责。
韩国半导体大厂三星电子不久前传出，员工与关系厂商向中企泄漏核心技术而蒙受天价损失，涉嫌在2016年向中国长鑫存储（CXMT）提供18奈米DRAM制程情报的金姓与方姓嫌犯今天遭韩国检方起诉。
据调查，金姓嫌犯2016年跳槽到长鑫存储时，将三星电子的蒸镀相关资料及7个核心制程技术资料流出，藉此获得数百亿韩圜收入，并以税后超过5亿韩圜的金额，从三星电子及相关厂商挖角20多名技术人员。
方姓嫌犯作为供应三星电子半导体设备的厂商高层，与金嫌合谋将所属公司拥有的设计技术资料泄漏给长鑫存储。
在这起案件曝光的半年前，一名三星电子常务也涉嫌收受中资，意图在中国境内建设“复刻版”三星电子半导体厂，当时推算至少让三星电子损失3000亿韩圜（约10.6亿令吉）。
韩媒先驱经济报报导，对于层出不穷的专利技术外流案件，特别是涉及国家核心技术部分，韩国大法院量刑委员会表示，将智慧财产权犯罪量刑标准修正列为优先工作之一，正在进行修正程序。
韩国警方向量刑委员会提出的建议书提到，技术外流所造成的损失严重性与损失规模推算困难，这类案件犯嫌通常只会得到相对轻微的处罚，认为有必要提高量刑标准；警方在2021年至2022年送检的193件营业秘密侵害案件中，没有任何人为此坐牢。
检方则指出，目前量刑标准仅将技术外流类型分为在国内流出或向他国流出，建议应依严重性至少细分为5到6种标准。
三星电子等业者内部当然也不断强化相关规定及措施，以保护自家商业机密，不过，业界人士指出，无论企业如何努力但仍不断发生这类案件，显示各种防止资讯外流、提高处罚强度等单方面措施并不足以完全防范，最终仍只能依靠员工个人道德及守法意识。
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文 :综合报导
图 :互联网
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